4-28 γ 总剂量辐射对运算放大器性能的影响

陈盘训 谢泽元

  在四川原子核应用技术研究所5.92´1015Bq 60Co源上对15种运算放大器(其中国产为11种,美国产为4种)(以下简称运放)进行了g 总剂量辐射效应实验。实验按国家标准“半导体器件辐射加固试验方法 g 总剂量辐射试验”的要求进行。器件辐照时采用了加偏置和不加偏置的移地测量方法。根据器件性能退化的不同速度,在3 g 剂量率下进行辐照试验,即0.0220.170.56Gy(Si)/s。每次辐照结束,所有器件的电参数在1h测完。因此,两次辐照仅相隔1h。每种运放样品为5~10只不等。样品实验板辐照面积为10cm´10cm。实测样品板上总剂量偏差不大于4.8%。采用硫酸亚铁和电离室2种方法测量辐照 g 剂量率。

  实验观察到随着辐射总剂量D的增加,运放的输入偏置电流、输入失调电压和开环增益等电参数都产生了退化。图1给出了F007C高增益通用运放输入偏置电流变化量D IB与总剂量D的关系,表115种运放总剂量辐射失效阈的比较。实验结果表明,除个别器件外,国内运放的总剂量水平在0.14~7kGy(Si)之间,美国公司市售运放产品总剂量水平大约也处于这个范围。可以认为,国内和国外的市售运放抗总剂量水平大致相当。

  对于g总剂量辐射而言,双极器件优于BiCMOS工艺;低功耗运放优于其它种类运放;不同厂家生产的同种类型运放,抗总剂量水平可能相差一个量级;加偏置和不加偏置辐照,引起运放产生损伤的差别不大。就运放电参数而言,输入偏置电流IB对总剂量辐射最灵敏,在低和中等总剂量水平下,DIBD有较好的线性关系,在高总剂量水平下,DIB趋于饱和。总剂量辐射下,输入失调电压和失调电流与D的关系不呈平滑变化曲线。开环电压增益对总剂量辐射不很灵敏。运放的g 总剂量辐射损伤会在室温下退火,退火速度较之CMOS逻辑器件慢。在电子系统加固设计时,通过表征试验,在市售运放产品中,可以选择到g 总剂量辐射水平较高的器件。

1 典型运算放大器总剂量辐射失效阈的比较

电路型号

电路名称

工艺

厂家

失效判据

总剂量失效阈/kGy(Si)

F007C

高增益通用运放

双极

749

D IB=规定限值

1.7

F007C

高增益通用运放

双极

4433

D IB=规定限值

0.14

m P741

高增益通用运放

双极

美国仙童

D IB=规定限值

0.7

F741

高增益通用运放

双极

4433

D IB= IB (0)

0.38

F741

高增益通用运放

双极

749

D IB= IB (0)

0.2

F005C

中增益通用运放

双极

4433

D IB=规定限值

5.0

LM101A

通用运放

双极

美国家半导体公司

D IB=规定限值

1.5

FC54C

低功耗运放

双极

4433

D IB=规定限值

0.52

F010C

低功耗运放

双极

749

D IB=规定限值

6.7

F253B

低功耗运放

双极

749

D IB=规定限值

1.3

F011C

低功耗运放

双极

749

D IB=规定限值

7.0

CA3078A

高可靠微功耗运放

双极

美国RCA公司

D IB=规定限值

2.6

F3140

高输入阻抗运放

BiMOS

4433

D IB= IB (0)

0.3

F3140

高输入阻抗运放

BiMOS

749

D IB= IB (0)

0.054

CA3140

高输入阻抗运放

BiMOS

美国RCA公司

D IB= IB (0)

0.3

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