3-7  双真空烘烤排气台的研制及应用

吴守东  陈  林  徐  敏  姚  斌  陈雪松

为了解决DPF实验中经常出现的首次中子产额不稳定、中子波形经常出现双峰以及每次充氘后稳定放电实验次数较少的问题，特地研制了双真空烘烤排气装置。

整机占地面积2.4 m²，高2.1 m。系统主要由真空放电管的主真空系统、真空放电管加热的真空烘烤装置、机架及电气控制部分组成。根据真空放电室的体积和真空度的要求采用F-150分子泵就可以满足真空度2´10^-5 Pa的要求，前级泵采用2XZ-4B型直联式旋片真空泵。

如图1所示为双真空烘烤排气台装配结构示意图，图2为真空烘烤示意图。其中烘烤炉由座圈、上钟罩、下钟罩、加热器、测温热电阻等组成。4根并联的镍络螺旋加热器，分两组布置在上、下加热罩上，加热器固定在钟罩上。由于在真空状态下进行烘烤加热、产生的是热辐射，所以能保证罩内各点的温度基本均匀。烘烤温度在150~300 ℃之间可调。另外，钟罩开启后绕立柱可逆时针旋转105°。当钟罩离开真空放电管后，连接上能源系统（电容器、场畸变开关、测试系统）就可以进行放电试验。

通过对采用双真空烘烤排气台处理后的真空放电管多次实验，表明经处理后的首次试验中子产额稳定、试验效率高，由一次充氘稳定试验约10次增加至约100次。该装置布局合理总体结构紧凑，占地面积小、结构灵活，便于操作，而且性能可靠。通过两年的满负荷运行证明其主要性能指标均符合理想设计。