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抛光工艺参数对熔石英元件低频面形精度的影响

王洪祥 朱本温 陈贤华 侯晶 王景贺

王洪祥, 朱本温, 陈贤华, 等. 抛光工艺参数对熔石英元件低频面形精度的影响[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27: 042001. doi: 10.11884/HPLPB201527.042001
引用本文: 王洪祥, 朱本温, 陈贤华, 等. 抛光工艺参数对熔石英元件低频面形精度的影响[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27: 042001. doi: 10.11884/HPLPB201527.042001
Wang Hongxiang, Zhu Benwen, Chen Xianhua, et al. Impact of polishing process parameters on the low frequency surface accuracy of fused silica optics[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2015, 27: 042001. doi: 10.11884/HPLPB201527.042001
Citation: Wang Hongxiang, Zhu Benwen, Chen Xianhua, et al. Impact of polishing process parameters on the low frequency surface accuracy of fused silica optics[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2015, 27: 042001. doi: 10.11884/HPLPB201527.042001

抛光工艺参数对熔石英元件低频面形精度的影响

doi: 10.11884/HPLPB201527.042001
详细信息
    通讯作者:

    王洪祥

Impact of polishing process parameters on the low frequency surface accuracy of fused silica optics

  • 摘要: 根据工件与抛光盘的相对运动关系及熔石英元件抛光加工材料去除模型,系统分析了转速比和偏心距等参数对材料去除函数的影响。通过理论分析和抛光加工实验,研究了不同工艺参数对低频段面形精度的影响规律。利用高分辨率检测仪器对熔石英元件低频面形误差进行了检测,优选出较佳的抛光工艺参数组合,并进行了相应的实验验证,提出了提高光学元件抛光加工低频面形质量的相应措施。
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出版历程
  • 收稿日期:  2014-09-24
  • 修回日期:  2015-01-12
  • 刊出日期:  2015-03-23

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