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双带X光源照射下几何因子对柱形靶腔中靶丸辐照不均匀度的影响

许琰 赖东显

许琰, 赖东显. 双带X光源照射下几何因子对柱形靶腔中靶丸辐照不均匀度的影响[J]. 强激光与粒子束, 1996, 08(02).
引用本文: 许琰, 赖东显. 双带X光源照射下几何因子对柱形靶腔中靶丸辐照不均匀度的影响[J]. 强激光与粒子束, 1996, 08(02).

双带X光源照射下几何因子对柱形靶腔中靶丸辐照不均匀度的影响

  • 摘要: 讨论了在激光束作用下在双端开口的柱形靶腔中产生双带状X光源的情况下,诸如带状光源的位置、柱靶腔的半径与长度之比及双带源的对称性和能量匹配性等几何因子对辐照不均匀度的影响。对辐照不均匀度进行了谱分析。通过采用类似Tsakiris等人给出的柱形靶腔在双带X光源下的靶腔温度空间分布,可以大大地简化辐照不均匀度的分析,可以用来计算辐照不均匀度随时间的变化。计算表明几何因子对辐照不均匀度有很大的影响,靶腔等离子体的膨胀将有助于获得高的辐照均匀度。
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出版历程
  • 刊出日期:  1996-05-15

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