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YbF3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷的影响

张耀平 许鸿 凌宁 张云洞

张耀平, 许鸿, 凌宁, 等. YbF3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷的影响[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17(07).
引用本文: 张耀平, 许鸿, 凌宁, 等. YbF3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷的影响[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17(07).
zhang yao-ping, xu hong, ling ning, et al. Influence of YbF3 deposition rate on surface defect density of infrared laser thin film[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17.
Citation: zhang yao-ping, xu hong, ling ning, et al. Influence of YbF3 deposition rate on surface defect density of infrared laser thin film[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17.

YbF3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷的影响

Influence of YbF3 deposition rate on surface defect density of infrared laser thin film

  • 摘要: 在介绍了薄膜缺陷的特点及成因的基础上,分析了YbF3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷密度的影响,得出了镀制激光薄膜所需的合适速率。结果表明:薄膜表面缺陷主要以节瘤缺陷与陷穴缺陷为主,其缺陷密度随YbF3沉积速率的减小基本表现为减小的趋势,当ZnS沉积速率约为0.2 nm/s,YbF3沉积速率约为0.4 nm/s时,可得到比较满意的激光薄膜,薄膜表面缺陷密度仅为0.000 675。
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出版历程
  • 刊出日期:  2005-07-15

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