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BEPCII电子枪系统设计

刘波 顾孟平 池云龙

刘波, 顾孟平, 池云龙. BEPCII电子枪系统设计[J]. 强激光与粒子束, 2006, 18(10).
引用本文: 刘波, 顾孟平, 池云龙. BEPCII电子枪系统设计[J]. 强激光与粒子束, 2006, 18(10).
liu bo, gu meng-ping, chi yun-long. Design of the BEPCII electron gun system[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2006, 18.
Citation: liu bo, gu meng-ping, chi yun-long. Design of the BEPCII electron gun system[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2006, 18.

BEPCII电子枪系统设计

Design of the BEPCII electron gun system

  • 摘要: BEPCII改进工程需要更高流强的电子枪。新电子枪系统的物理设计、机械设计、控制系统设计等均进行了描述。电子枪的设计发射电流在脉宽为1 ns时大于10 A,重复频率50 Hz。将会采用脉冲电源来为电子枪提供最高200 kV的脉冲高压。在设计阶段,电子枪的几何结构和束流传输过程利用计算机模拟进行了优化。EGUN和DGUN的计算结果表明导流系数为0.22 mA·V-3/2,电子枪出口的发射度为16 p·mm·mrad。PARMELA的模拟结果表明束流能顺利地传输至第一根加速管末端,捕获效率为67%,出口的均方根发射度为25 mm·mrad。基于EPICS平台的电子枪控制系统设计也已完成,提供了全新的双脉冲运行模式和2.5 μs长脉冲运行模式。
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出版历程
  • 刊出日期:  2006-10-25

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