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改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响

杨伟 李海波 张清华 马红菊 惠浩浩 刘志超 马平

杨伟, 李海波, 张清华, 等. 改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(12).
引用本文: 杨伟, 李海波, 张清华, 等. 改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(12).
yang wei, li haibo, zhang qinghua, et al. Effect of modifiers on uniformity of spin-coated sol-gel silica antireflective films[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22.
Citation: yang wei, li haibo, zhang qinghua, et al. Effect of modifiers on uniformity of spin-coated sol-gel silica antireflective films[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22.

改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响

Effect of modifiers on uniformity of spin-coated sol-gel silica antireflective films

  • 摘要: 分析了采用旋转涂膜法制备溶胶-凝胶SiO2减反膜过程中条纹缺陷产生的机理,利用含氟醇类试剂对减反膜溶胶进行改性,使溶胶链段柔顺性及流动性得到改善。在光学显微镜下对改性前后的膜层进行了对比和分析,对膜层的表面形貌、表面粗糙度以及透射比等特性进行了表征。结果表明:溶胶改性之后的膜层未出现条纹缺陷,表面粗糙度均方根值从4.55 nm下降到小于1.00 nm,膜层表面质量有了较大提高;改性前后膜层的增透性能相当,在熔石英基片上制备的膜层峰值透射比为99.60%~99.89%,膜层激光损伤阈值为21.0~25.3 J/cm2。
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出版历程
  • 刊出日期:  2010-12-07

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