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高损伤阈值三倍频分离膜

王孝东 张锦龙 马彬 焦宏飞 丁涛 程鑫彬

王孝东, 张锦龙, 马彬, 等. 高损伤阈值三倍频分离膜[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(07).
引用本文: 王孝东, 张锦龙, 马彬, 等. 高损伤阈值三倍频分离膜[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(07).
wang xiaodong, zhang jinlong, ma bin, et al. Third harmonic separator with high laser-induced damage threshold[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.
Citation: wang xiaodong, zhang jinlong, ma bin, et al. Third harmonic separator with high laser-induced damage threshold[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.

高损伤阈值三倍频分离膜

Third harmonic separator with high laser-induced damage threshold

  • 摘要: 设计了Nd:YAG激光用三倍频分离膜,膜层材料为SiO2和HfO2。经过优化,膜系在355 nm处的反射率在99%以上,在532 nm和1 064 nm处透射率也在99%以上。采用电子束蒸发技术,在熔融石英基底上制备了样品,经测量,制备的分离膜光学性能与设计值接近。分离膜在355 nm激光辐照下的损伤阈值为5.1 J/cm2,并用微分干涉显微镜表征了薄膜损伤形貌。
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  • 刊出日期:  2011-07-21

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