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光学元件超声清洗工艺研究

王刚 马平 邱服民 胡江川 鄢定尧

王刚, 马平, 邱服民, 等. 光学元件超声清洗工艺研究[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 1761-1764.
引用本文: 王刚, 马平, 邱服民, 等. 光学元件超声清洗工艺研究[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 1761-1764.
Wang Gang, Ma Ping, Qiu Fumin, et al. Optimization of ultrasonic cleaning of optics[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 1761-1764.
Citation: Wang Gang, Ma Ping, Qiu Fumin, et al. Optimization of ultrasonic cleaning of optics[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 1761-1764.

光学元件超声清洗工艺研究

详细信息
    通讯作者:

    王刚

Optimization of ultrasonic cleaning of optics

  • 摘要: 系统开展了光学元件超声清洗工艺的实验研究。通过研究超声清洗剂、清洗温度等工艺参数的优化,找到了能够有效祛除元件表面无机污染物和有机污染物的较佳超声清洗工艺,且超声清洗没有对光学元件表面产生损伤,清洗后的光学元件接触角小于6,并不残留大于1 m的颗粒,超声清洗对光学元件表面污染物的祛除能力远胜于手工清洗。
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出版历程
  • 刊出日期:  2012-07-15

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