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倾斜直流场下的介质板击穿统计分析

胡涛 周东方

胡涛, 周东方. 倾斜直流场下的介质板击穿统计分析[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26: 113006. doi: 10.11884/HPLPB201426.113006
引用本文: 胡涛, 周东方. 倾斜直流场下的介质板击穿统计分析[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26: 113006. doi: 10.11884/HPLPB201426.113006
Hu Tao, Zhou Dongfang. Statistical prediction of dielectric single-surface multipactor discharge in strong oblique DC Field[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26: 113006. doi: 10.11884/HPLPB201426.113006
Citation: Hu Tao, Zhou Dongfang. Statistical prediction of dielectric single-surface multipactor discharge in strong oblique DC Field[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26: 113006. doi: 10.11884/HPLPB201426.113006

倾斜直流场下的介质板击穿统计分析

doi: 10.11884/HPLPB201426.113006
详细信息
    通讯作者:

    胡涛

Statistical prediction of dielectric single-surface multipactor discharge in strong oblique DC Field

  • 摘要: 传统分析介质板次级电子倍增问题的粒子追踪算法方法存在运算耗时长、运算量大等缺点,为此采用统计方法实现了倾斜强直流场下介质击穿过程中次级电子倍增效应的数值模拟,给出了击穿过程中电子数量,电子渡越时间等关键参数的时间图像,同时研究了倾斜角、介质表面光滑度和次级电子产生率对次级电子倍增效应的影响。研究结果表明:强直流场下的次级电子倍增效应存在倾斜角的区域,倾斜角太大或者太小,都可能不会发生次级电子倍增效应,如果倾斜角位于区域内,则饱和状态时电子数目随着倾斜角度的变大而变小;选取光滑系数和次级电子产生系数越小的介质材料,抑制次级电子倍增效应的效果越好。
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出版历程
  • 收稿日期:  2014-04-30
  • 修回日期:  2014-07-09
  • 刊出日期:  2014-11-04

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