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基于蒙卡和粒子示踪程序的电子成像模拟分析

王致远 杜应超 黄文会

王致远, 杜应超, 黄文会. 基于蒙卡和粒子示踪程序的电子成像模拟分析[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26: 114007. doi: 10.11884/HPLPB201426.114007
引用本文: 王致远, 杜应超, 黄文会. 基于蒙卡和粒子示踪程序的电子成像模拟分析[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26: 114007. doi: 10.11884/HPLPB201426.114007
Wang Zhiyuan, Du Yingchao, Huang Wenhui. Simulation analysis of electron imaging method based onMonte Carlo simulation and particle tracer software[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26: 114007. doi: 10.11884/HPLPB201426.114007
Citation: Wang Zhiyuan, Du Yingchao, Huang Wenhui. Simulation analysis of electron imaging method based onMonte Carlo simulation and particle tracer software[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26: 114007. doi: 10.11884/HPLPB201426.114007

基于蒙卡和粒子示踪程序的电子成像模拟分析

doi: 10.11884/HPLPB201426.114007
详细信息
    通讯作者:

    王致远

Simulation analysis of electron imaging method based onMonte Carlo simulation and particle tracer software

  • 摘要: 借助理论分析和数值模拟,设计了基于高能电子束团的辐射成像系统,并通过Geant4和GPT软件对成像系统的相关参数进行了优化。模拟中分析了影响系统空间分辨率及物质厚度分辨率的因素,结果显示,模拟中设计的成像系统空间分辨率达到m量级,并且具有一定的厚度分辨能力。该设计指标满足对一定厚度及结构的样品进行成像的要求。
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出版历程
  • 收稿日期:  2014-04-21
  • 修回日期:  2014-07-27
  • 刊出日期:  2014-11-04

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