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ADS注入器Ⅰ高频四极场功率源系统研制

周祖圣 何大勇 刘熔 池云龙

周祖圣, 何大勇, 刘熔, 等. ADS注入器Ⅰ高频四极场功率源系统研制[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27: 085106. doi: 10.11884/HPLPB201527.085106
引用本文: 周祖圣, 何大勇, 刘熔, 等. ADS注入器Ⅰ高频四极场功率源系统研制[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27: 085106. doi: 10.11884/HPLPB201527.085106
Zhou Zusheng, He Dayong, Liu Rong, et al. Development of RFQ power source for ADS injector I[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2015, 27: 085106. doi: 10.11884/HPLPB201527.085106
Citation: Zhou Zusheng, He Dayong, Liu Rong, et al. Development of RFQ power source for ADS injector I[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2015, 27: 085106. doi: 10.11884/HPLPB201527.085106

ADS注入器Ⅰ高频四极场功率源系统研制

doi: 10.11884/HPLPB201527.085106
详细信息
    通讯作者:

    周祖圣

Development of RFQ power source for ADS injector I

  • 摘要: ADS注入器Ⅰ高频四极场(RFQ)功率源系统将为325 MHz RFQ提供连续波功率,使束流离开RFQ时,其能量达到几MeV。功率源系统除了补偿RFQ腔耗外,还必须提供足够的功率以保证RFQ中的加速电场。ADS注入器Ⅰ RFQ功率源系统主要包括600 kW连续波速调管、80 kV/18 A基于脉冲步进调制技术的PSM电源、环流器以及相应的波导传输系统等。根据ADS总体指标和RFQ的相关技术参数,提出了功率源的总体布局、技术指标以及设计要求等,在此基础上完成系统安装与调试,并通过专家组测试与验收。
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出版历程
  • 收稿日期:  2015-05-05
  • 修回日期:  2015-06-24
  • 刊出日期:  2015-08-11

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