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DMH镀金体系在ICF空腔靶中的应用

杨潇薇,  安茂忠,  张云望,  张林

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杨潇薇, 安茂忠, 张云望, 等. DMH镀金体系在ICF空腔靶中的应用[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 1111-1116. doi: 10.3788/HPLPB20122405.1111
引用本文: 杨潇薇, 安茂忠, 张云望, 等. DMH镀金体系在ICF空腔靶中的应用[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 1111-1116. doi: 10.3788/HPLPB20122405.1111
shu
Yang Xiaowei, An Maozhong, Zhang Yunwang, et al. DMH镀金体系在ICF空腔靶中的应用[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 1111-1116. doi: 10.3788/HPLPB20122405.1111
Citation: Yang Xiaowei, An Maozhong, Zhang Yunwang, et al. DMH镀金体系在ICF空腔靶中的应用[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 1111-1116. doi: 10.3788/HPLPB20122405.1111
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DMH镀金体系在ICF空腔靶中的应用

doi: 10.3788/HPLPB20122405.1111
  • 1.

    哈尔滨工业大学 化工学院, 哈尔滨 1 50001 ;

  • 2.

    中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621 900

详细信息
    通讯作者:

    杨潇薇

DMH镀金体系在ICF空腔靶中的应用

  • 1.

    School of Chemical Engineering and Technology,Harbin Institute of Technology,Harbin 150001,China;

  • 2.

    Research Center of Laser Fusion,CAEP,P.O.Box 919-987,Mianyang 621900,China

    摘要
  • 摘要:

    将 5,5-二甲基乙内酰脲(DMH)新型无氰电镀体系应用于惯性约束聚变金空腔靶制备中。利用扫描电镜和库仑计法研究了以DMH为配位剂的镀液组成和工艺条件对电镀金层质量等的影响。结果表明:该镀液体系具有良好的稳定性，控制镀液中金盐质量浓度为8 g/L，DMH质量浓度为80 g/L时，在阴极电流密度1.5 A/dm2、pH值9~10、温度45 ℃的条件下，可制得结晶致密、厚度均一的金镀层。

    Abstract:

    将 5,5-二甲基乙内酰脲(DMH)新型无氰电镀体系应用于惯性约束聚变金空腔靶制备中。利用扫描电镜和库仑计法研究了以DMH为配位剂的镀液组成和工艺条件对电镀金层质量等的影响。结果表明:该镀液体系具有良好的稳定性，控制镀液中金盐质量浓度为8 g/L，DMH质量浓度为80 g/L时，在阴极电流密度1.5 A/dm2、pH值9~10、温度45 ℃的条件下，可制得结晶致密、厚度均一的金镀层。

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出版历程
  • 收稿日期:  2011-09-27
  • 刊出日期:  2012-05-15

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