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材料表面处理用强流电子回旋共振离子源

明建川 郭之虞 彭士香

明建川, 郭之虞, 彭士香. 材料表面处理用强流电子回旋共振离子源[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 2911-2914. doi: 10.3788/HPLPB20122412.2911
引用本文: 明建川, 郭之虞, 彭士香. 材料表面处理用强流电子回旋共振离子源[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 2911-2914. doi: 10.3788/HPLPB20122412.2911
Ming Jianchuan, Guo Zhiyu, Peng Shixiang. Electron cyclotron resonance ion source for material surface treatment[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 2911-2914. doi: 10.3788/HPLPB20122412.2911
Citation: Ming Jianchuan, Guo Zhiyu, Peng Shixiang. Electron cyclotron resonance ion source for material surface treatment[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 2911-2914. doi: 10.3788/HPLPB20122412.2911

材料表面处理用强流电子回旋共振离子源

doi: 10.3788/HPLPB20122412.2911
详细信息
    通讯作者:

    明建川

Electron cyclotron resonance ion source for material surface treatment

  • 摘要: 介绍一台2.45 GHz永磁强流电子回旋共振离子源,其外径160mm,高90 mm,放电室直径70 mm,高50 mm。微波馈入采用介质耦合方式,微波窗由一块f50 mm10 mm柱形BN和两块f30 mm10 mm的柱形陶瓷构成。离子源工作在脉冲模式下,采用三电极引出系统,最高引出电压达到100 kV,在微波输入功率300 W、进气量0.4 mL/min时,可引出峰值超过30 mA的氮离子束,在距离离子源引出孔1200 mm位置处的束流均匀区直径大于200 mm。
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出版历程
  • 收稿日期:  2012-01-17
  • 修回日期:  2012-07-05
  • 刊出日期:  2012-11-05

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