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等离子体离子源发射面的理论计算与数值模拟

金大志 戴晶怡 杨中海

金大志, 戴晶怡, 杨中海. 等离子体离子源发射面的理论计算与数值模拟[J]. 强激光与粒子束, 2008, 20.
引用本文: 金大志, 戴晶怡, 杨中海. 等离子体离子源发射面的理论计算与数值模拟[J]. 强激光与粒子束, 2008, 20.
jin da-zhi, dai jing-yi, yang zhong-hai. Estimation and simulation of emitting surface in plasma ion source[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2008, 20.
Citation: jin da-zhi, dai jing-yi, yang zhong-hai. Estimation and simulation of emitting surface in plasma ion source[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2008, 20.

等离子体离子源发射面的理论计算与数值模拟

Estimation and simulation of emitting surface in plasma ion source

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出版历程
  • 刊出日期:  2008-04-15

等离子体离子源发射面的理论计算与数值模拟

摘要: 等离子体离子源发射面的位置和形状决定了离子束的传输特性,而发射面的位置与形状又取决于等离子体参数、引出电压、电极结构等,并自动地调节到某个平衡状态。介绍了一种2维情况下等离子体离子源发射面的位置与形状的理论计算方法,即非磁化等离子体不能扩散进入外加电场中大于一定临界值的区域,等离子体离子源发射面的位置及形状可以通过直接求解引出系统的Laplace方程而得到。利用基于PIC的OOPIC程序对不同引出结构的发射面位置及形状和引出束流进行了数值模拟,结果与理论计算的结果十分接近。

English Abstract

金大志, 戴晶怡, 杨中海. 等离子体离子源发射面的理论计算与数值模拟[J]. 强激光与粒子束, 2008, 20.
引用本文: 金大志, 戴晶怡, 杨中海. 等离子体离子源发射面的理论计算与数值模拟[J]. 强激光与粒子束, 2008, 20.
jin da-zhi, dai jing-yi, yang zhong-hai. Estimation and simulation of emitting surface in plasma ion source[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2008, 20.
Citation: jin da-zhi, dai jing-yi, yang zhong-hai. Estimation and simulation of emitting surface in plasma ion source[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2008, 20.

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