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氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜的制备及其光学性能

彭强祥 李志杰 祖小涛

彭强祥, 李志杰, 祖小涛. 氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜的制备及其光学性能[J]. 强激光与粒子束, 2009, 21(05).
引用本文: 彭强祥, 李志杰, 祖小涛. 氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜的制备及其光学性能[J]. 强激光与粒子束, 2009, 21(05).
peng qiangxiang, li zhijie, zu xiaotao. Preparation and optical properties of SiO2 stablized SnO2 quantum dot films[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2009, 21.
Citation: peng qiangxiang, li zhijie, zu xiaotao. Preparation and optical properties of SiO2 stablized SnO2 quantum dot films[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2009, 21.

氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜的制备及其光学性能

Preparation and optical properties of SiO2 stablized SnO2 quantum dot films

  • 摘要: 用溶胶-凝胶-水热过程制备了氧化硅稳定的氧化锡量子点,然后将其分散到氧化硅溶液中,用旋转涂膜的方法制备光学性能良好的氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜。X射线衍射和高分辨透射电镜表征显示氧化锡量子点具有良好的四方金红石晶型,平均粒径约4.0 nm。室温光致发光显示这种氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜在356 nm和388 nm处分别有很强的激子发光和缺陷态发光。根据透射谱拟合得到了氧化锡量子点薄膜的光学禁带宽度,其值约为3.96 eV。
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出版历程
  • 刊出日期:  2009-05-15

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