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熔石英光学元件的损伤前驱及其抑制技术

叶鑫 黄进 王凤蕊 程强 刘红婕 周信达 孙来喜 张振 蒋晓东 郑万国

叶鑫, 黄进, 王凤蕊, 等. 熔石英光学元件的损伤前驱及其抑制技术[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25: 3220-3224. doi: 3220
引用本文: 叶鑫, 黄进, 王凤蕊, 等. 熔石英光学元件的损伤前驱及其抑制技术[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25: 3220-3224. doi: 3220
Ye Xin, Huang Jin, Wang Fengrui, et al. Laser damage precursors in fused silica and mitigation process[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25: 3220-3224. doi: 3220
Citation: Ye Xin, Huang Jin, Wang Fengrui, et al. Laser damage precursors in fused silica and mitigation process[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25: 3220-3224. doi: 3220

熔石英光学元件的损伤前驱及其抑制技术

doi: 3220
详细信息
    通讯作者:

    蒋晓东

Laser damage precursors in fused silica and mitigation process

  • 摘要: 基于抛光所引起的熔石英元件表面、亚表面所存在的损伤前驱体分布,研究了不同种类的损伤前驱体所引起的损伤形貌。然后根据不同种类的损伤前驱体分别采用表面活性剂、强氧化性酸、氢氟酸的水溶液对不同的损伤前驱体进行处理。研究结果显示:经过前期预先清洗以后,吸收性杂质所导致的雾状损伤得以消除,亚表面分布的裂纹得以很好地平滑钝化,极大地提升了熔石英光学元件的抗损伤性能,损伤阈值从4.8 J/cm2提高到11.0 J/cm2, 最大提升幅度达到原来的2.3倍。
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出版历程
  • 收稿日期:  2013-07-22
  • 修回日期:  2013-08-13
  • 刊出日期:  2013-12-15

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