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HfO2/SiO2薄膜的激光预处理作用研究

卫耀伟 张哲 刘浩 欧阳升 郑轶 唐耿宇 陈松林 马平

卫耀伟, 张哲, 刘浩, 等. HfO2/SiO2薄膜的激光预处理作用研究[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25: 3338-3342. doi: 3338
引用本文: 卫耀伟, 张哲, 刘浩, 等. HfO2/SiO2薄膜的激光预处理作用研究[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25: 3338-3342. doi: 3338
Wei Yaowei, Zhang Zhe, Liu Hao, et al. Laser conditioning effect on HfO2/SiO2 film[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25: 3338-3342. doi: 3338
Citation: Wei Yaowei, Zhang Zhe, Liu Hao, et al. Laser conditioning effect on HfO2/SiO2 film[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25: 3338-3342. doi: 3338

HfO2/SiO2薄膜的激光预处理作用研究

doi: 3338
详细信息
    通讯作者:

    卫耀伟

Laser conditioning effect on HfO2/SiO2 film

  • 摘要: 激光预处理是提高激光薄膜抗激光损伤阈值的重要手段。对电子束蒸发方式镀制的HfO2/SiO2反射膜采用大口径激光进行了辐照,并采用激光量热计测量了激光辐射前后的弱吸收值。采用聚焦离子束(FIB)技术分析了激光辐照后薄膜的损伤形态并探究了损伤原因,首次采用扫描电镜拍摄到了节瘤部分喷发时的形貌图,并对其进行了FIB分析,为进一步了解节瘤的损伤过程提供了依据。实验发现,激光辐照过后的激光薄膜弱吸收明显降低,激光预处理有效减少了引起薄膜吸收的缺陷,存在明显的清洗效应;在本实验采用的HfO2/SiO2反射膜中,激光预处理技术对于祛除位于基底上种子形成的节瘤是有效的,原因是激光辐射过后该节瘤进行了预喷发并不会对后续激光产生影响;而激光预处理技术对位于膜层中间的可能是镀膜过程中材料飞溅引起的缺陷是无效的,需要通过其他手段对该类节瘤进行祛除。
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出版历程
  • 收稿日期:  2013-07-22
  • 修回日期:  2013-08-14
  • 刊出日期:  2013-12-15

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